金融界2024年12月16日音讯，国家知识产权局信息数据显现，武汉光迅科技股份有限公司获得一项名为“一种适用不规则wafer的匀胶托盘”的专利，授权公告号CN 222145394 U，请求日期为2024年3月。

　　专利摘要显现，本实用新型触及一种适用不规则wafer的匀胶托盘。其最重要的包括托盘底座，所述托盘底座中部设置有真空孔，所述托盘底座旁边面设置有至少三个弹性结构，所述弹性结构的一端固定在所述托盘底座旁边面，所述弹性结构的另一端衔接有压挡结构并朝向所述托盘底座的中部伸出。本实用新型可以给我们供给一种适用不规则wafer的匀胶托盘，使用时可根据wafer形状来调整弹性杆方位，使得匀胶时可对不规则wafer做固定，在真空孔吸附力度缺乏的情况下，也能保证wafer进行十分快速地旋转不被甩飞，大幅度的提高了匀胶进程的安全性。